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一九六一年,GCA是第一家制造商业步进和重复掩模减少设备的公司;七五年,推出了首个用于抗蚀剂加工的晶圆轨道;七八年,推出DSW 4800、第一个成功的晶圆光刻机;八五年研发出第一台为贝尔实验室开发的DUV步进投影式光刻机。
技术实力雄厚。
八八年,General Signal以七千六百万美元收购了陷入财务困境的GCA,随后,Sematech资助GCA开发KrF光刻机。...
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