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GCA董事会已决定放弃生产1um制程工艺的光刻机，生产6英寸晶圆（800nm制程工艺）、8英寸晶圆（500nm、350nm、250nm制程工艺）的光刻机，集中力量同Nikon竞争高端光刻机市场，GCA今后为晶圆厂（FAB）生产800nm制程工艺的半导体生产线，可以搭配BSEC生产的1um制程工艺的光刻机。
这是BSEC生产6英寸晶圆和1um制程工艺光刻机的良机，一旦搭上GCA这辆...
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